进博会摆出一台透明光刻机：SMEE 展出新一代前道干式平台，I-line 与 KrF 通吃

作者：陈一帆

11 月 5 日进博会开幕，上海微电子（SMEE）展出一台透明剖视的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，声称适配 I-line 与 KrF 两条工艺路线，核心模块全链条自主可控。展方还给出多台设备在头部逻辑、存储产线运行、累计流片超千万片、有效运行率超 92% 的口径。但具体型号、分辨率节点、是否量产交付、与 SSA 系列的关系以及物镜国产化程度，报道均未交代。

11 月 5 日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心（上海）开幕，上海微电子装备（SMEE）展出了一台新一代前道干式光刻机的通用技术平台模型。模型做成透明剖视，整机光路走向和内部机电布局一眼看到底；展方称这套平台同时适配 I-line 与 KrF 两条工艺路线 。和以往摆单机不同，这次给出来的是一套标准化平台的架构样板。

前道光刻，到底在干什么

老式照相馆里，放大机把底片上的影像投到相纸上曝光。光刻机做的是同一件事：底片换成刻着电路图形的掩模版，相纸换成涂了感光胶的晶圆，投影按比例缩小，位置误差按纳米算。按工序分，前道设备用于晶圆制造，后道用于封装测试，精度和价钱差着量级 。所以「前道」两个字，说的不是先进程度，而是它在产线上的位置——所有电路图形都得靠它一层层印上去。

I-line 和 KrF 处在哪一档

两者都是深紫外（DUV）光源：I-line 波长 365nm，KrF 波长 248nm 。波长越短，能画出的线越细。拿笔打比方，I-line 像写海报的粗记号笔，KrF 像顺手好用的中性笔，再往上一档是 193nm 的 ArF，其中浸没式提供 DUV 里最高的分辨率和处理能力，相当于勾工笔画的细笔 。国内已能稳定量产交付的，是前两支所在的那一段。这一段撑起的多是电源管理、模拟、驱动、MCU 这类不必追最先进制程的芯片，需求量大、扩产集中，所以它不是一个纯展示性的档位。

平台里装了什么

据展方介绍，模型覆盖的四个核心模块——高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统——均实现全链条自主可控 。双工件台的思路是两台交替接力：一台专注曝光，另一台同步做曝光前的预对准准备，报道引用的测算称这能把生产效率提升约 35% 。这项技术的意义在产线节拍上：一台机器贵，多半时间不该浪费在等对准。

数据方面，报道称 SMEE 成立于 2002 年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期运行，累计支持流片超千万片，设备有效运行率超 92%，成像性能与国际同类领先产品水平相当，套刻精度和生产效率在紧密追赶 。

几个还没有答案的问题

这次展出的是模型，不是待交付的机器。报道没有给出具体型号和分辨率节点，没有说明这套平台是否已经进入量产交付，也没讲清它与既有 SSA 系列是什么关系；「全链条自主可控」目前是展方口径，物镜等核心部件国产化到什么程度，还缺少第三方拆解或产线工艺验证的佐证。再往上一档，ArF 浸没式仍是国际产能主力，这一档国产还没到能谈交付的位置——期待和已实现，最好分开放。

如果上述量产数据站得住，这次真正值得记的是重心在移位：从「能不能造出来」挪到「造得快不快、稳不稳、坏了能不能自己修」。判断下一步，与其看下一次展台，不如看这套平台架构什么时候落到具体型号的交付清单上。

转载说明

本文根据以下公开资料整理，原文及配图出处见下方。

• [S1] 我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相
• [S2] 上海微电子装备(集团)股份有限公司
• 配图 1：来源：www.ithome.com（图片署名见原文） · 图片出处
• 配图 2：来源：www.smee.com.cn（图片署名见原文） · 图片出处
• 配图 3：来源：www.smee.com.cn（图片署名见原文） · 图片出处
• 配图 4：来源：www.smee.com.cn（图片署名见原文） · 图片出处